logo
Хорошая цена  онлайн

Подробная информация о продукции

Created with Pixso. Дом Created with Pixso. продукты Created with Pixso.
Субстрат полупроводника
Created with Pixso.

субстрат Dsp Ssp вафли окиси галлия бета коэффициента Ga2O3 1inch 2inch

субстрат Dsp Ssp вафли окиси галлия бета коэффициента Ga2O3 1inch 2inch

Наименование марки: ZMKJ
Номер модели: Бета Coefficient-Ga2O3
MOQ: 5pcs
цена: by case
Детали упаковки: одиночный контейнер вафли в комнате чистки
Условия оплаты: T/T, западное соединение, PayPal
Подробная информация
Место происхождения:
фарфор
layer:
GaN template
layer thickness:
1-5um
Melt point (°C):
1725°C
Conductivity:
Semi-insulating, Fe-doped,Mg-doped
Electrical Resistivity:
>1E6 Ohm-cm
Density:
5.95 g/cm3
Поставка способности:
50pcs/month
Выделить:

вафля окиси галлия 2inch

,

Субстрат вафли бета коэффициента Ga2O3

,

Субстрат полупроводника окиси галлия

Характер продукции

 Вафля окиси галлия Coefficient-Ga2O3 Epiwafers окиси галлия бета дала допинг субстрату Dsp Ssp квадрата Mg Fe3+

 

Окись галлия (Ga2O3) имеет большую энергию диапазон-зазора, и ее можно вырасти от плавит источник. В результате большие, высококачественные субстраты одно-Кристл можно изготовить по низким ценам. Эти характеристики делают Ga2O3 многообещающий материал для производительности электроники следующего поколени. Она также имеет высокое преимущество уменьшения сопротивления серии голубого СИД или СИД UVB.

 

Свойства Ga2O3

β-Ga2O3 смесь окиси галлия, которая широкий материал полупроводника зазора диапазона. Своя кристаллическая структура принадлежит шестиугольной кристаллографической системе, с высокой подвижностью электрона и большой шириной связи, поэтому она имеет широкую перспективу применения. Здесь некоторые детали о β-Ga2O3:

Физические свойства:

Кристаллическая структура: шестиугольная кристаллографическая система

Плотность: ³ 5,88 g/cm

Решетка постоянн: = 0,121 nm, c = 0,499 nm

Точка плавления: °C 1725

R.I.: 1.9-2.5

Прозрачный диапазон длины волны: 0.23-6.0μm

Электрические свойства:

Ширина связи: 4.8eV

Подвижность электрона: 200-600 ² /Vs см

Тариф утечки: ² 10^ -5-10 ^-10 A/cm

Потенциал РЕДОКСОВ: 2.5V против NHE

Применение Ga2O3

 

Из-за своих широкого зазора диапазона и высокой подвижности электрона, β-Ga2O3 имеет широкую перспективу применения в производительности электроники, photoelectronics, фотоэлементах и других полях. Специфические применения включают:

 

Детекторы и лазеры ультрафиолетова

Диоды MOSFETs и Schottky наивысшей мощности

Высокотемпературный датчик и потенциальный датчик

Фотоэлементы и материалы СИД

β-Ga2O3 все еще смотрит на некоторые проблемы в подготовке и применение, как выращивание кристаллов, управление примеси, изготовление прибора, etc. как бы, с непрерывным развитием технологии, перспектива применения β-Ga2O3 все еще очень широко.

Окись галлия, одиночный кристалл Ga2O3 субстраты 2inch субстраты 10*15mm
Ориентация (- 201) (- 201) (- 201) (010) (010) (010)
Dopant Sn ООН-данный допинг Sn Sn ООН-данный допинг Fe
Проводимость n типа n типа n типа n типа n типа Изоляция (>1010
Nd-Na (cm-3) 5E17~9E18 5E17 или более менее 5E17~9E18 1E18~9E18 1E17~5E17 -
Размеры A-B (mm) 50.8±0.3 50.8±0.3 15±0.3 15±0.3 15±0.3 15±0.3
КОМПАКТ-ДИСК (mm) 41~49.8 41~49.8 10±0.3 10±0.3 10±0.3 10±0.3
Толщина 0.68±0.02 0.68±0.02 0.68±0.02 0.5±0.02 0.5±0.02 0.5±0.02
Ссылка (m Fig.1 Fig.1 Fig.2 Fig.3 Fig.3 Fig.3
Угол смещения
(степень)
[010]: 0±0.4 [010]: 0±0.4 [010]: 0±0.4 丄 [102]: 0±1 丄 [102]: 0±1 丄 [102]: 0±1
[102]: 0.7±0.4 [102]: 0.7±0.4 [102]: 0.7±0.4 [102]: 0±1 [102]: 0±1 [102]: 0±1
FWHM (arcsec) [010]: 150 или более менее [010]: 150 или более менее [010]: 150 или более менее 丄 [102]: 150 или 丄 [102]: 150 или 丄 [102]: 150 или
[102]: 150 или более менее [102]: 150 или более менее [102]: 150 или более менее [102]: 150 или более менее [102]: 150 или более менее [102]: 150 или более менее
Поверхность Фронт CMP CMP CMP CMP CMP CMP
Назад Грубый Грубый Грубый Грубый Грубый Грубый
 
Деталь Спецификация
Ориентация -100
Данный допинг UID Mg Fe
Электрический параметр 1 ×1017~3×1018cm-3 ≥1010 Ω ·см ≥1010 Ω ·см
ширина полу-высоты кривой качания Двойн-Кристл ≤150
Плотность дислокации см-2 <1×10 5
Размер A-B КОМПАКТ-ДИСК 厚度
10mm 10.5mm 0,5 (±0.02) mm
5mm 10mm 0,5 (±0.02) mm
Плоскостность Длинная сторона ориентация [010]
Поверхность DSP/SSP
Ра<0>
Mis<>

 

субстрат Dsp Ssp вафли окиси галлия бета коэффициента Ga2O3 1inch 2inch 0субстрат Dsp Ssp вафли окиси галлия бета коэффициента Ga2O3 1inch 2inch 1

 

 

субстрат Dsp Ssp вафли окиси галлия бета коэффициента Ga2O3 1inch 2inch 2субстрат Dsp Ssp вафли окиси галлия бета коэффициента Ga2O3 1inch 2inch 3