• SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии
  • SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии
  • SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии
  • SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии
SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии

SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии

Подробная информация о продукте:

Место происхождения: Китай
Фирменное наименование: ZMSH

Оплата и доставка Условия:

Количество мин заказа: 10
Лучшая цена контакт

Подробная информация

Точка плавления: ~1650 ≈1700 °C цвет: Прозрачная до бледно-желтой
Твердость Моха: 6 ¢6.5 Типичная кристаллическая ориентация: (001), (100), (110)
Выделить:

Настраиваемый субстрат LSAO

,

Эпитакси ЛСАО субстрат

,

SrLaAlO4 LSAO субстрат

Характер продукции

SrLaAlO4 /LaSrAlO4 LSAO10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии

 

 

 

Резюме SrLaAlO4 / LaSrAlO4/LASOSrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии 0

SrLaAlO4, также пишется какLaSrAlO4в зависимости от элементарного порядка, является сложным оксидным кристаллом, состоящим из стронция (Sr), лантана (La), алюминия (Al) и кислорода (O).широко изучается и используется в материаловедении из-за его благоприятной структурнойЭтот материал наиболее известен своим использованием в качестве субстрата для эпитаксиального роста высокотемпературных сверхпроводящих пленок (HTS).

 

Таблица атрибутовSrLaAlO4 /LaSrAlO4/LASO

Недвижимость Стоимость / Описание
Химическая формула SrLaAlO4 или LaSrAlO4
Структура кристалла Тетрагональный
Космическая группа I4/mmm
Константы решетки a = 3,754 Å, c = 12,63 Å (типичный)
Плотность ~ 6,56 г/см3
Точка плавления ~1650 ≈1700 °C
Коэффициент теплового расширения ~7,4 × 10−6 /K
Индекс преломления ~1,84 (на длине волны 633 нм)
Цвет Прозрачная до бледно-желтой
Твердость Моха 6 ¢6.5
Типичная кристаллическая ориентация (001), (100), (110)
Основные применения Субстрат для эпитаксиального роста сверхпроводников с высоким Tc, таких как YBCO
Сопоставление решетки Хорошее совпадение с YBa2Cu3O7 (YBCO), La2CuO4 и аналогичными оксидами
Способ выращивания Метод Цохральского (CZ)
Кристальная форма Однокристаллические
Поверхностная отделка SSP (одностороннее полирование), DSP (двустороннее полирование)

 

 

Физическое изображениеSrLaAlO4 /LaSrAlO4/ LASOотображение

 

SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии 1SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии 2SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии 3

 

ПреимуществаSrLaAlO4 /LaSrAlO4/ LASOкак субстрат

 

Совпадение решетки:Константы решетки SrLaAlO4 тесно совпадают с константами решетки YBCO и La2CuO4, что приводит к низкому напряжению и высококачественным эпитаксиальным интерфейсам.

 

Тепловая стабильность:Он выдерживает высокотемпературные процессы осаждения (до ~ 1000 °C) без значительной деградации.

 

Химическая стабильность:Инертен против большинства атмосфер осаждения, включая среды с высоким содержанием кислорода, используемые в оксиде MBE и PLD.

 

Качество поверхности:Высококачественная полировка дает плоские, бездефектные поверхности с шероховатостью < 1 нм RMS, необходимые для однородности тонкой пленки.

 

Общие применения  - Да.SrLaAlO4 /LaSrAlO4/LASO

 

Эпитаксиальный субстрат для сверхпроводников с высоким Tc

Наиболее широко применяется LaSrAlO4 в качестве субстрата для YBCO (YBa2Cu3O7−x) и аналогичных пленок HTS. Он позволяет выращивать высокоориентированные, эпитаксиальные пленки, свободные от дефектов,необходимо для максимизации критической плотности тока (Jc) и переходной температуры (Tc).

 

Оксидная электроника

LaSrAlO4 подходит для выращивания других оксидных пленок перовскитового типа, используемых в ферроэлектрике, диэлектрике и спинтронике..

 

Фотонические и электрооптические устройства

Благодаря своей оптической прозрачности и плоской, стабильной поверхности, он также может служить хозяином или основой для оптических покрытий, волноводов и нелинейных оптических устройств в видимом и ближнем инфракрасном диапазоне.

 

Мультиферровые гетероструктуры

SrLaAlO4 также используется в исследованиях, связанных с мультиферровыми и магнитоэлектрическими устройствами, где необходимы высококачественные интерфейсы между слоями.

 

Вопросы и ответы

 

Вопрос:Почему SrLaAlO4 важен?

 

А:Важность SrLaAlO4 возникает в первую очередь из-за его кристаллографической совместимости с сверхпроводящими пленками с высоким содержанием Tc.Одной из основных проблем при выращивании высококачественных сверхпроводящих тонких пленок является несоответствие решетки между пленкой и подложкойДаже небольшое несоответствие может привести к неправильным вывихам, которые ухудшают сверхпроводящие свойства. SrLaAlO4 предлагает почти идеальное сочетание решетки со многими оксидными сверхпроводниками и связанными с ними материалами..

 

Кроме того, коэффициент теплового расширения SrLaAlO4 также близок к коэффициенту этих пленок, минимизируя тепловое напряжение во время цикла температуры (например,от осаждения при высокой температуре до охлаждения для криогенных измерений или применений).

 

 

Другие сопутствующие рекомендации по продукту

ZnTe Wafer ZnTe Crystal Type N Type P Размеры и спецификации на заказ

SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии 4

Хотите узнать больше подробностей об этом продукте
Мне интересно SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Субстрат для эпитаксии не могли бы вы прислать мне более подробную информацию, такую ​​как тип, размер, количество, материал и т. д.
Спасибо!
Жду твоего ответа.