Name: 8/6/4/2 дюймовая Окислительная печь LPCVD полная автоматизация Низкий контроль кислорода Осаждение тонкой пленки
Uploaded: 2026-03-10CDT00:13:12-05:00
Duration: 46 s
Description: Discover the 8/6/4/2Inch LPCVD Oxidation Furnace, a fully automated system for thin film deposition with low oxygen control. Ideal for semiconductor manufacturing, it ensures excellent film uniformity and repeatability, supporting various oxidation, annealing, and LPCVD processes. Perfect for high-volume production with seamless MES integration.

Чат контактные данные

8/6/4/2 дюймовая Окислительная печь LPCVD полная автоматизация Низкий контроль кислорода Осаждение тонкой пленки

Другие видео

April 27, 2025

Чат контактные данные

Описание видео:

Discover the 8/6/4/2Inch LPCVD Oxidation Furnace, a fully automated system for thin film deposition with low oxygen control. Ideal for semiconductor manufacturing, it ensures excellent film uniformity and repeatability, supporting various oxidation, annealing, and LPCVD processes. Perfect for high-volume production with seamless MES integration.

Родственные видео