• вафля ХВПЭ нитрида галлия 5кс5/10кс10 Мм освобождает стоящий шаблон обломока промышленный
  • вафля ХВПЭ нитрида галлия 5кс5/10кс10 Мм освобождает стоящий шаблон обломока промышленный
  • вафля ХВПЭ нитрида галлия 5кс5/10кс10 Мм освобождает стоящий шаблон обломока промышленный
вафля ХВПЭ нитрида галлия 5кс5/10кс10 Мм освобождает стоящий шаблон обломока промышленный

вафля ХВПЭ нитрида галлия 5кс5/10кс10 Мм освобождает стоящий шаблон обломока промышленный

Подробная информация о продукте:

Место происхождения: Китай
Фирменное наименование: zmkj
Номер модели: ГаН-ФС-К-У-К50-ССП

Оплата и доставка Условия:

Количество мин заказа: 10pcs
Цена: 1200~2500usd/pc
Упаковывая детали: одиночный случай вафли пакетом вакуума
Время доставки: 1-5weeks
Условия оплаты: T/T
Поставка способности: 50 шт в месяц
Лучшая цена контакт

Подробная информация

Материал: Кристалл GaN одиночный Размер: 10x10/5x5/20x20 мм
Толщина: 0.35 мм Тип: Тип N
Применение: Полупроводниковое устройство
Выделить:

ган вафля

,

вафли фосфида галлия

Характер продукции

2 дюймовый шаблон субстратов GaN, GaN-вольф для LED, полупроводящий галлиевой нитрид для ld, GaN-вольф для ld, mocvd GaN-вольф, свободно стоящие GaN-субстраты по индивидуальному размеру, небольшой размер GaN-вольф для LED,mocvd галлиевый нитрид 10x10 мм,5x5mm, 10x5mm GaN вафры, Неполярные свободностоящие GaN субстраты ((a-плоскость и m-плоскость)

 

Характеристика вафеля GaN

Продукт Субстраты из нитрида галлия (GaN)
Описание продукта:

Сапфир GaN шаблон представлен методом эпиксиальной гидридной паровой фазы эпитаксии (HVPE).

кислоту, полученную в результате реакции GaCl, которая в свою очередь реагирует с аммиаком для получения раствора нитрида галлия.Эпитаксиальная модель GaN является экономически эффективным способом замены однокристаллического субстрата нитрида галлия.

Технические параметры:
Размер 2 "круглые; 50 мм ± 2 мм
Позиционирование продукта С-ось <0001> ± 1.0.
Тип проводимости N-тип и P-тип
Сопротивляемость R < 0,5 Омм-см
Обработка поверхности (ГА поверхность) AS Взрослый
RMS < 1 нм
Доступная площадь > 90%
Спецификации:

 

GaN эпитаксиальная пленка (C плоскость), N-тип, 2 "* 30 микрон, сапфир;

GaN эпитаксиальная пленка (C плоскость), N-типа, 2 "* 5 микронов сапфира;

GaN эпитаксиальная пленка (R плоскость), N-тип, 2 "* 5 микронов сапфира;

ГаН эпитаксиальная пленка (М плоскость), N-тип, 2 "* 5 микронов сапфира.

Пленка с AL2O3 + GaN (N-type doped Si); пленка с AL2O3 + GaN (P-type doped Mg)

Примечание: в соответствии с требованиями заказчика специальная ориентация и размер розетки.

Стандартная упаковка: 1000 чистых помещений, 100 чистых пакетов или упаковки в одну коробку
 

вафля ХВПЭ нитрида галлия 5кс5/10кс10 Мм освобождает стоящий шаблон обломока промышленный 0

 

Применение

GaN может использоваться во многих областях, таких как светодиодный дисплей, высокоэнергетическое обнаружение и визуализация,
Дисплей с лазерной проекцией, устройство питания и т.д.

  • Дисплей с лазерной проекцией, устройство питания и т.д.
  • Хранение даты
  • Энергоэффективное освещение
  • Полноцветный дисплей
  • Лазерные проекции
  • Высокоэффективные электронные устройства
  • Высокочастотные микроволновые устройства
  • Высокоэнергетическое обнаружение и воображение
  • Новая энергия солнце или водородная технология
  • Окружающая среда Обнаружение и биологическая медицина
  • Терагерцовая полоса источника света


вафля ХВПЭ нитрида галлия 5кс5/10кс10 Мм освобождает стоящий шаблон обломока промышленный 1

Спецификации:

  Неполярные свободностоящие субстраты GaN ((a-plane и m-plane)
Положение GaN-FS-a GaN-FS-m
Размеры 5.0 мм × 5,5 мм
50,0 мм × 10,0 мм
50,0 мм × 20,0 мм
Размер настройки
Толщина 350 ± 25 мкм
Ориентация a-плоскость ± 1° m-плоскость ± 1°
TTV ≤ 15 мкм
ВЫБОК ≤ 20 мкм
Тип провода Тип N
Сопротивляемость ((300K) < 0,5 Ω·cm
Плотность дислокации менее 5х106см-2
Пользуемая площадь поверхности > 90%
Полировка Передняя поверхность: Ra < 0,2 нм.
Задняя поверхность: тонкая почва
Пакет Упаковывается в чистой комнате класса 100, в контейнерах с одной пластинкой, в атмосфере азота.

 

 


 

 

Вопросы и ответы

 

Вопрос:Что такое вафля с ГаН?

А:А.Вафли с GaN(палитра нитрида галлия) - это тонкая плоская подложка, изготовленная из нитрида галлия, полупроводникового материала с широким диапазоном пропускания, широко используемого в высокопроизводительной электронике.ГаН-облаки являются основой для производства электронных устройствЭтот материал особенно важен в таких отраслях промышленности, как силовая электроника, телекоммуникации,и светодиодного освещения.

 

 

Вопрос:Почему ГаН лучше кремния?

А:GaN (нитрид галлия) лучше кремния во многих высокопроизводительных приложениях из-за егоШирокая полоса(3,4 eV по сравнению с 1,1 eV кремния), что позволяет устройствам GaN работать наболее высокие напряжения,температуры, ичастоты. ГаНвысокая эффективностьприводит кснижение теплопроизводстваиуменьшение потерь энергии, что делает его идеальным для силовой электроники,системы быстрой зарядки, ивысокочастотные приложенияКроме того, GaN имеетлучшая теплопроводностьВ результате устройства на основе GaN более компактны, энергоэффективны и надежны, чем их кремниевые аналоги.

 

 

вафля ХВПЭ нитрида галлия 5кс5/10кс10 Мм освобождает стоящий шаблон обломока промышленный 2

 

 



 

 

Ключевые слова:#GaN #Nitride Gallium #PowerElectronics #HighPerformance #Efficiency #LED #LaserProjection #EnergyEfficientLighting #HighFrequencyDevices #NonPolarGaN #FreestandingGaN #GaNSubstrates #MOCVD Ключевые слова:#GaN #GalliumNitride #PowerElectronics #HighPerformance #Efficiency #LED #LaserProjection #EnergyEfficientLighting #HighFrequencyDevices #NonPolarGaN #GaNSubstrates #MOCVD

Хотите узнать больше подробностей об этом продукте
Мне интересно вафля ХВПЭ нитрида галлия 5кс5/10кс10 Мм освобождает стоящий шаблон обломока промышленный не могли бы вы прислать мне более подробную информацию, такую ​​как тип, размер, количество, материал и т. д.
Спасибо!
Жду твоего ответа.