Наименование марки: | ZMSH |
SIC квадратный субстрат 5×5 10×10 350um Относительно оси: 2,0°-4,0°в сторону
Квадратные субстраты карбида кремния (SiC) являются критически важными материалами в передовых полупроводниковых устройствах, особенно в высокомощных и высокочастотных приложениях.высокое разрывное напряжение, и широкий диапазон пропускания делают его идеальным выбором для электротехники следующего поколения, особенно в суровых условиях.Квадратная форма этих субстратов облегчает эффективное использование при изготовлении устройств и обеспечивает совместимость с различным оборудованием обработкиКроме того, SiC-субстраты с углами от оси от 2,0° до 4,0° широко используются для улучшения качества эпитаксиального слоя за счет уменьшения дефектов, таких как микротрубы и вывихы.Эти субстраты также играют ключевую роль в разработке высокопроизводительных диодов, транзисторов и других электронных компонентов, где высокая эффективность и надежность имеют первостепенное значение.Квадратные подложки SiC предлагают перспективные решения в таких секторах, как электромобилиПродолжающиеся исследования сосредоточены на оптимизации производства SiC-субстратов для снижения затрат и повышения производительности материала.В этом резюме излагается важность квадратных субстратов SiC и их роль в развитии современных полупроводниковых технологий.
Свойства квадратного субстрата карбида кремния (SiC) имеют решающее значение для его производительности в полупроводниковых приложениях.
Широкий диапазон (3,26 eV): SiC имеет гораздо более широкий диапазон, чем кремний, что позволяет ему работать при более высоких температурах, напряжениях и частотах без снижения производительности.
Высокая теплопроводность (3,7 Вт/см·К): Отличная теплопроводность SiC позволяет эффективно рассеивать тепло, что делает его идеальным для применения на высокой мощности.
Электрическое поле высокого разрыва (3 МВ/см): SiC может выдерживать более высокие электрические поля, чем кремний, что имеет решающее значение для высоковольтных устройств, уменьшая риск повреждения и повышая эффективность.
Высокая мобильность электронов (950 см2/В·с): Хотя SiC немного ниже кремния, он по-прежнему обладает хорошей мобильностью электронов, что позволяет быстрее переключаться в электронных устройствах.
Механическая твердость: SiC - это чрезвычайно твердый материал с твердостью Моха около 9.5, что делает его высоко устойчивым к износу и способным поддерживать структурную целостность в экстремальных условиях.
Химическая стабильность: SiC химически инертен, устойчив к окислению и коррозии, что делает его подходящим для суровых химических и экологических условий.
Угол вне оси: Многие субстраты SiC имеют отрез вне оси (например, 2,0°-4,0°) для улучшения роста эпитаксиального слоя, уменьшения дефектов, таких как микротрубы и вывихы в кристаллической структуре.
Низкая плотность дефектов: Высококачественные SiC-субстраты имеют низкую плотность кристаллических дефектов, повышая производительность и надежность электронных устройств.
Эти свойства делают квадратные субстраты SiC идеальными для применения в силовой электронике, электромобилях, телекоммуникациях и системах возобновляемых источников энергии.где высокая эффективность и долговечность необходимы.
Основные параметры производительности | |
Наименование продукта
|
Силиконокарбидная подложка, вафель из карбида кремния, вафель SiC, субстрат SiC
|
Способ выращивания
|
MOCVD
|
Структура кристалла
|
6h, 4h
|
Параметры решетки
|
6H ((a=3.073 Å c=15.117 Å),
4H ((a=3,076 Å c=10,053 Å) |
Последовательность складирования
|
6H: ABCACB,
4H: ABCB |
Уровень
|
Производственный класс, исследовательский класс, фиктивный класс
|
Тип проводимости
|
N-тип или полуизоляционный |
Пробелы между полосками
|
3.23 eV
|
Твердость
|
9.2 (мох)
|
Теплопроводность @300K
|
30,2-4,9 Вт/см.К
|
Диэлектрические константы
|
e(11)=e(22)=9.66 e(33)=10.33
|
Сопротивляемость
|
4H-SiC-N: 0,015 ~ 0,028 Ω·cm, 6H-SiC-N: 0,02 ~ 0,1 Ω·cm, 4H/6H-SiC-SI: >1E7 Ω·cm |
Упаковка
|
Чистая сумка класса 100, в чистой комнате класса 1000
|
Квадратные субстраты из карбида кремния (SiC) нашли реальные применения в различных высокотехнологичных отраслях промышленности, в первую очередь из-за их исключительных тепловых, электрических и механических свойств.Некоторые из ключевых применений включают:
Эти приложения демонстрируют универсальность и влияние квадратных субстратов SiC в обеспечении высокопроизводительных, энергоэффективных решений в различных отраслях промышленности.
Вопрос: Что такое силикокарбонатные субстраты?
А:Вафры и подложки из карбида кремния (SiC)специализированные материалы, используемые в полупроводниковой технологии, изготовленные из карбида кремния, соединение, известное своей высокой теплопроводностью, превосходной механической прочностью и широким диапазоном.