Наименование марки: | ZMSH |
MOQ: | 1 |
Детали упаковки: | одиночный контейнер вафли |
Условия оплаты: | T/T, |
12-дюймовая пластинка SiC пластинка Кремниевого карбида 300 мм 750±25um 4H-N ориентация типа 100 Производство исследовательский класс
12-дюймовый SiC-вольфайл
Эта 12-дюймовая пластина из карбида кремния (SiC) предназначена для передовых полупроводниковых приложений, имеет диаметр 300 мм, толщину 750±25 мкм,и кристаллической ориентации типа 4H-N с политипом 4H-SiC. Пластина производится с использованием высококачественных методов производства, чтобы соответствовать стандартам исследовательской и производственной среды.высокотемпературные, и высокочастотные устройства, часто используемые в таких приложениях, как электромобили (EV), силовая электроника и радиочастотная технология.Высокая структурная целостность и точные спецификации вафли обеспечивают высокую производительность при изготовлении устройств., предлагая оптимальные результаты в передовых исследованиях и промышленных применениях.
12-дюймовый график данных SiC-вофлеров
1 2дюйм Силиконовый карбид (SiC) Спецификация подложки | |||||
Уровень | Производство ZeroMPD Степень ((Степень Z) |
Стандартное производство Класс ((P Класс) |
Скриншоты (D класс) |
||
Диаметр | 3 0 0 мм | ||||
Толщина | 4H-N | 750 μm±15 μm | 750 мкм±25 мкм | ||
4H-SI | 750 μm±15 μm | 750 мкм±25 мкм | |||
Ориентация пластинки | Снаружи оси: 4,0° в сторону <1120 >±0,5° для 4H-N, на оси: <0001>±0,5° для 4H-SI | ||||
Плотность микротруб | 4H-N | ≤ 0,4 см-2 | ≤ 4 см-2 | ≤ 25 см-2 | |
4H-SI | ≤ 5 см-2 | ≤ 10 см-2 | ≤ 25 см-2 | ||
Сопротивляемость | 4H-N | 00,015-0,024 Ω·cm | 00,015-0,028 Ω·cm | ||
4H-SI | ≥1E10 Ω·cm | ≥1E5 Ω·cm | |||
Первичная плоская ориентация | {10-10} ±5,0° | ||||
Первичная плоская длина | 4H-N | Никаких | |||
4H-SI | Взлом | ||||
Исключение краев | 3 мм | ||||
LTV/TTV/Bow/Warp | ≤5μm/≤15μm/≤35μm/≤55μm | ≤5μm/≤15μm/≤35 □ μm/≤55 □ μm | |||
Грубость | Польский Ra≤1 nm | ||||
CMP Ra≤0,2 нм | Ra≤0,5 нм | ||||
Краевые трещины от высокой интенсивности света Шестигранные пластины с высокой интенсивностью света Политипные области по высокой интенсивности света Визуальные углеродные включения Силиконовая поверхность царапается высокоинтенсивным светом |
Никаких Кумулятивная площадь ≤ 0,05% Никаких Кумулятивная площадь ≤ 0,05% Никаких |
Кумулятивная длина ≤ 20 мм, одиночная длина ≤ 2 мм Кумулятивная площадь ≤ 0,1% Совокупная площадь ≤ 3% Кумулятивная площадь ≤ 3% Кумулятивная длина ≤ 1 × диаметр пластины |
|||
Крайние чипы с высокой интенсивностью света | Не допускается ширина и глубина ≥ 0,2 мм | 7 допускается, ≤ 1 мм каждый | |||
(ТСД)Выдвижение винта | ≤500 см-2 | Никаких | |||
(БПД)Дислокация базовой плоскости | ≤1000 см-2 | Никаких | |||
SIlicon ПоверхностьЗагрязнение высокой интенсивностью света | Никаких | ||||
Опаковка | Кассета с несколькими пластинами или контейнер с одной пластинкой | ||||
Примечания: | |||||
1 Ограничения дефектов применяются ко всей поверхности пластины, за исключением зоны исключения краев. 2Ограбления должны быть проверены только на лицевой стороне. 3 Данные о вывихях получены только из выгравированных пластинок KOH. |
Фото 12-дюймовой пластинки Си-Си.
Свойства 12-дюймовой пластинки SiC
Приложения 12-дюймовой пластинки SiC
12-дюймовые пластинки SiC в основном используются в высокопроизводительной силовой электронике, включая силовые MOSFET, диоды и IGBT, что позволяет эффективно конвертировать энергию в таких отраслях промышленности, какэлектромобили,Возобновляемая энергия, ипромышленные энергосистемыВысокая теплопроводность, широкий диапазон пропускной способности и способность выдерживать высокие температуры делают SiC® идеальным для применения вАвтомобильная электроника,Инверторы мощности, иэнергетические системы высокой мощности. Использование ввысокочастотные радиочастотные устройстваисистемы микроволновой связитакже делает его критически важным для телекоммуникаций, аэрокосмических и военных радиолокационных систем.
Кроме того, пластинки SiC используются вСветодиоды и оптоэлектроника, служащие субстратами дляСиние и УФ-диодные светодиодыУстойчивость материала в суровых условиях позволяет использовать его вдатчики высокой температуры,медицинские изделия, испутниковые энергосистемы. С его растущей ролью вумные сети,хранение энергии, ираспределение энергии, SiC помогает улучшить эффективность, надежность и производительность в широком спектре приложений.
Вопросы и ответы на 12-дюймовые Си-Си вафры
Ответ.: 12-дюймовая пластина SiC - это субстрат из карбида кремния (SiC) диаметром 12 дюймов, в основном используемый в полупроводниковой промышленности, особенно для высокопроизводительных, высокотемпературных,и высокочастотные приложенияМатериалы SiC широко используются в силовой электронике, автомобильной электронике и устройствах для преобразования энергии из-за их отличных электрических, тепловых и механических свойств.
Ответ.: Преимущества 12-дюймового SiC-вофтера включают: