| Наименование марки: | ZMSH |
| MOQ: | 25 |
| Условия оплаты: | T/T |
Аннотация
Оптические окна Ti:Al₂O₃ представляют собой передовые инженерные материалы, сочетающие превосходную твердость оксида алюминия (9 по Моосу) с улучшенными оптическими характеристиками, обусловленными титаном. Синтезированные путем высокотемпературного плавления и прецизионного легирования, эти окна демонстрируют исключительную пропускающую способность (≥92% в видимом спектре) и синюю флуоресценцию, индуцированную УФ-излучением (пик 450 нм). Ключевые преимущества включают экстремальную долговечность (твердость по Виккерсу 2300-2800 МПа), стойкость к высоким температурам (до 1800°C) и стабильность к коррозии/излучению (pH 1-13, ослабление γ-излучения <0,5%). Разработанные для промышленных и научных применений, они оптимизируют производительность в литографии полупроводников (выравнивание суб-3 нм), системах LiDAR (работа в диапазоне -40°C–85°C) и мощных лазерах (1064 нм, 10 кВт/см²). Экономически эффективные и настраиваемые, окна Ti:Al₂O₃ переопределяют надежность для передовых оптических систем.О компании
Оптические окнаТехнические параметрыСвойствоЗначениеХимическая формула
Ti³⁺ Al₂O₃Кристаллическая структура
| гексагональная | Ориентация |
| Ось А в пределах 5°, вектор E параллелен оси С | Плотность |
| 3,98 г/см³ | Твердость по Моосу |
| 9 | Модуль Юнга |
| 335 ГПа | Предел прочности на растяжение |
| 400 МПа | Температура плавления |
| 2040 °C | Теплопроводность |
| 33 Вт/(м·К) | Коэффициент теплового расширения |
| ≈ 5 × 10⁻⁶ K⁻¹ | Параметр стойкости к термоудару |
| 790 Вт/м | Показатель преломления при 633 нм |
| 1,76 | Температурная зависимость показателя преломления |
| 13 × 10⁻⁶ K⁻¹ | Плотность Ti при 0,1% ат. легирования |
| 4,56 × 10¹⁹ см⁻³ | Концентрации |
| (0,05~0,35) вес. % | Конечная конфигурация |
| Плоские/Плоские или Брюстер/Брюстер | Сечение излучения при 790 нм (поляризация параллельна оси с) |
| 41 × 10⁻²⁰ см² | Покрытия |
| Стандартное покрытие - антибликовое с R < 5,0% на каждой стороне при 532 нм и R < 0,5% на каждой стороне в диапазоне от 650 нм до 850 нм. Поддерживаются индивидуальные покрытия. | Применение оптических окон |
| | Производство полупроводников |
| | Литография в глубоком ультрафиолете (EUV): Используются в качестве защитных окон в системах литографии в глубоком ультрафиолете (EUV), обеспечивая поглощение <0,001 дБ/см при 13,5 нм для изготовления чипов суб-3 нм. |
О: : Высокая пропускающая способность (>92% при 193 нм) обеспечивает точную оптическую инспекцию наноразмерных дефектов.О:
О: О:
О: О:
О: О:
О: Потребительская электроникаО:
О: О:
В каких отраслях эти окна обычно используются?
Они широко применяются в производстве полупроводников, лазерных системах, автономных транспортных средствах, аэрокосмической отрасли, медицинских устройствах и потребительской электронике благодаря своей надежности в экстремальных условиях.![]()
Они широко применяются в производстве полупроводников, лазерных системах, автономных транспортных средствах, аэрокосмической отрасли, медицинских устройствах и потребительской электронике благодаря своей надежности в экстремальных условиях.![]()
О:
Абсолютно. Синтетическое производство значительно снижает затраты, сохраняя или превосходя характеристики натуральных аналогов.В:
О: