logo
Хорошая цена  онлайн

Подробная информация о продукции

Created with Pixso. Дом Created with Pixso. продукты Created with Pixso.
Вафля нитрида галлия
Created with Pixso.

Тип n вафли Dia 200mm AlGaN Si Epi на микро- СИД 6 дюймов

Тип n вафли Dia 200mm AlGaN Si Epi на микро- СИД 6 дюймов

Наименование марки: zmkj
Номер модели: 8inch 6inch AlGaN/GaN HEMT-на-HR Si Epiwafer
MOQ: 1pcs
цена: 1200~2500usd/pc
Детали упаковки: одиночный случай вафли пакетом вакуума
Условия оплаты: T/T
Подробная информация
Место происхождения:
КИТАЙ
Материал:
ГаН-слой на sI-субстрате
Размер:
8 дюймов / 6 дюймов
Толщина GaN:
2-5UM
Тип:
N-TYPE
Применение:
Полупроводниковое устройство
Поставка способности:
50PCS в месяц
Выделить:

Вафля Dia 200mm Si Epi

,

Вафля Si Epi 6 дюймов

,

Вафля арсенида галлия AlGaN

Характер продукции

 

8 дюймовый 6 дюймовый AlGaN/GaN HEMT-on-HR Si Epiwafer GaN-on-Si Epiwafer для микро-LED для RF-приложения

 

Характеристика вафеля GaN

  1. III-нитрид ((GaN,AlN,InN)

Нитрид галлия является одним из видов широкоразрывных полупроводников.

Высококачественный однокристаллический субстрат, изготовленный с использованием оригинального метода HVPE и технологии обработки пластинок, которая была первоначально разработана в течение 10+ лет в Китае.Особенности высококристаллические., хорошая однородность и превосходное качество поверхности. ГаН-субстраты используются для многих видов применений, для белого светодиода и LD ((фиолетовый, синий и зеленый).Развитие продвинулось в области применения мощных и высокочастотных электронных устройств.

 

 

Для применения энергии

Тип n вафли Dia 200mm AlGaN Si Epi на микро- СИД 6 дюймов 0

Спецификация продукта

Положения Значения/пространство применения
Субстрат Да, да.
Диаметр пластины 4 ¢/ 6?? / 8
Толщина эпислоя 4-5мм
Волокна для вафелей < 30ммТипично
Морфология поверхности RMS < 0,5 нм в 5×5 мкм²
Барьер Аль.XПошли.1-XN, 0
Кап. слой In-situSiNили GaN (D-режим); p-GaN (E-режим)
Плотность 2DEG > 9E12/см2(20nm Al)0.25GaN)
Мобильность электронов > 1800 см2/Vs(20nm Al)0.25GaN)

 

Для применения радиочастотного излучения

Тип n вафли Dia 200mm AlGaN Si Epi на микро- СИД 6 дюймов 1

Тип n вафли Dia 200mm AlGaN Si Epi на микро- СИД 6 дюймов 2

Спецификация продукта

Положения Значения/пространство применения
Субстрат HR_Si/SiC
Диаметр пластины 4/6/ дляSiC, 4 ¢/ 6 ¢/ 8 ¢ дляHR_Si
Эпи- толщина слоя 2-3мм
Волокна для вафелей < 30ммТипично
Морфология поверхности RMS < 0,5 нм в 5×5 мкм²
Барьер AlGaNилиAlNилиInAlN
Кап. слой In-situSiNили GaN

 

 

Для светодиодного применения

Тип n вафли Dia 200mm AlGaN Si Epi на микро- СИД 6 дюймов 3

 

 

О НАШЕЙ фабрике OEM

Тип n вафли Dia 200mm AlGaN Si Epi на микро- СИД 6 дюймов 4

 

Наше видение предприятия Factroy
Мы предоставим высококачественный ГаН субстрат и технологии применения для промышленности с нашей фабрикой.
Высококачественный GaN материал является ограничивающим фактором для применения III-нитридов, например, длительный срок службы
и высокой стабильности LD, высокой мощности и высокой надежности микроволновых устройств, высокая яркость
и высокоэффективные, энергосберегающие светодиоды.

- Часто задаваемые вопросы
Вопрос: Что вы можете предоставить логистику и стоимость?
(1) Мы принимаем DHL, Fedex, TNT, UPS, EMS, SF и т.д.
(2) Если у вас есть свой экспресс-номер, это здорово.
Если нет, мы можем помочь вам доставить.

В: Сколько времени на доставку?
(1) Для стандартных изделий, таких как 2 дюймовые 0,33 мм пластины.
Для инвентаря: доставка осуществляется через 5 рабочих дней после заказа.
Для индивидуальных изделий: доставка осуществляется через 2 или 4 рабочих недели после заказа.

Вопрос: Как платить?
100% T/T, Paypal, West Union, MoneyGram, безопасные платежи и торговая гарантия.

СОБЩЕННЫЕ ПРОДУКТЫ