Дом
Продукты
субстрат сапфира
Синтетический камень самоцвета
Сапфир оптически Виндовс
Вафля кремниевого карбида
Трубка сапфира
Вафля нитрида галлия
Субстрат полупроводника
научное оборудование лаборатории
Случай дозора сапфирового стекла
Коробка несущей вафли
Сверхпроводящий тонкий Монокрысталлине субстрат
Части керамические
О нас
О Компании
Наша фабрика
Контроль качества
Свяжитесь мы
Новости
Russian
English
French
German
Italian
Russian
Spanish
Portuguese
Dutch
Greek
Japanese
Korean
Arabic
Hindi
Turkish
Indonesian
Vietnamese
Thai
Bengali
Persian
Polish
Отправить запрос
Поиск
Главная страница
Китай SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD Карта сайта
компания
Компании
Экскурсия по заводу
История компании
Контроль качества
Сервис компании
Контакты
Продукция
субстрат сапфира
Нитрид галлия на кремниевой пластине GaN-on-Si 2 дюйма 4 дюйма 6 дюймов 8 дюймов для технологии CMOS
Сапфировая вафель 4 дюйма DSP SSP 0001 C плоскость Принимать индивидуальную ось монокристалл Al2O3
Сапфировая вафель монокристаллическая Al2O3 DSP SSP 2 дюйма 4 дюйма 6 дюйма 8 дюйма 12 дюйма плоскость A плоскость C
Высокая твердость сапфировых лезвиев эффективно уменьшает повреждение тканей для медицинских применений
Синтетический камень самоцвета
Золотой искусственный сапфир сырой драгоценный камень шкала твердости Моха 9 кристаллов для ювелирных изделий
Полированные для прозрачности и точности Приложения промышленные шары сапфировые высокая твердость и устойчивость
LSO ((Ce) Lutecium Oxyorthosilicate ((Ce) Сцинтилляторный кристалл для медицинской визуализации с высокой эффективностью сцинтилляции
Небесно-синий искусственный сапфировый ряд кристаллический драгоценный камень светло-синий для украшения ювелирные изделия
Сапфир оптически Виндовс
Защита лазерной системы Оптическая прозрачность Сапфировый купол Высокотемпературная производительность
Устойчивость к ударам Полушарие Сапфир Купол Устойчивость к УФ Сапфир
Однокристаллические Al2O3 Сапфировые купола Ультрафиолетовая устойчивость к воздействию Сапфировое полушарие Окна
Купольный сапфир Оптические окна Химическая устойчивость Высокая теплопроводность Толщина 1 мм 2 мм
Вафля кремниевого карбида
2 дюйма 4 дюйма 6 дюймов 8 дюймов 3C-N SiC Wafer Силиконовый карбид Оптоэлектронный высокомощный RF LEDS
3C-N тип Кремниевого карбида пластинки 2 дюймов 4 дюймов 6 дюймов или 5 * 5 10 * 10 мм Размер Производственный класс Исследовательский класс
Кремниевые карбидные пластины 3C-N типа 5*5 10*10 мм дюйма Диаметр толщина 350 μm±25 μm
3C-N SiC вафель 4 дюймовый Кремниевый карбид Prime Grade Dummy Grade Высокая мобильность электронов RF LED
Трубка сапфира
Промышленный синтетический сапфир Ал2О3 подгонянное трубками отполированное Кристл
Настраиваемая сапфировая труба прозрачная сапфировая труба твердость Mohs 9.0 высокая износостойкость
настраиваемая Сапфировый нерегулярный стержень промышленное специальное применение высокая твердость
99.999% Al2O3 трубка с полированной поверхностью
Субстрат полупроводника
Al Ориентация однокристаллического алюминиевого субстрата 111 100 111 5×5×0,5 мм A=4,040Ã
Специализированное толщина Al однокристаллический алюминиевый субстрат Чистота 99/99% 5×5×1/0.5 мм 10×10×1/0.5 20x20x0.5/1 мм
Сплавленный кремниевый пластинка JGS1 JGS2 BF33 8 дюймов 12 дюймов толщина 750um±25um Ra ≤ 0.5nm TTV ≤ 10um
Пропускная способность N-InP-субстрата 02:2.5G длина волны 1270nm эпи-вофлеры для лазерного диода FP
научное оборудование лаборатории
SiC Однокристаллическая сопротивляющая нагревательная кристаллическая печь для выращивания 6 дюймовых 8 дюймовых 12 дюймовых SiC пластин
Микроджетное лазерное оборудование для высокоточного нарезания пластинки с обработкой линз из карбида кремния
Микрореактивное лазерное оборудование высокоэнергетическое лазерное оборудование и микроновая технология жидкостного струя
Технология микрофлюидного лазерного оборудования, используемая для обработки твердых и хрупких материалов карбида кремния Сермета
<<
<
3
4
5
6
7
8
9
10
>
>>